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Title: Technologie- und Verfahrensentwicklung zur Abscheidung von p-Siliziumkarbid nach dem Chemical Vapour Deposition (CVD)-Verfahren : Abschlußbericht
Authors: Wagner, GüntherDoerschel, J.Irmscher, K.Leitenberger, W.Lux, Krist. B.Roßberg, M.
Publishers Version: https://doi.org/10.2314/GBV:391117289
Issue Date: 2003
Publisher: Hannover : Technische Informationsbibliothek (TIB)
Abstract: [no abstract available]
DDC: 620
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