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Title: Technologie- und Epitaxieentwicklung von AlGaN/GaN HFETs: Materialgüte, innovative Prozesstechnologie und Zuverlässigkeit : Schlussbericht
Authors: Würfl, J.Behtash, R.Gesche, R.Janke, B.Klockenhoff, H.Krüger, O.Lossy, R.Chaturvedi, N.Heinrich, W.Knigge, St.Liero, A.Mai, M.
Publishers Version: https://doi.org/10.2314/GBV:558320058
Issue Date: 2007
Publisher: Hannover : Technische Informationsbibliothek (TIB)
Abstract: [no abstract available]
DDC: 620
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